活性酸素は簡単に発生させることが出来るのですか？

酸素からOHラジカルが生成される過程は下記の通りです。 　

　 　
一般的に出来てしまえば何でもそう難しいことはありません。弊社の活性酸素（スーパーオキシド）生成装置は下記の2種類です。消費電力300～500VAで多量の活性酸素を生成します。 　

　
　 　 　
　　　水処理用「AOSⅡ」
　　大気処理用「AOS1」
有機物分解の為には、OHラジカルが必要です。 　
大気中では上記の生成反応で、･O2までがAOSで、以降は処理装置内の反応になり、OHラジカルが発生します。 　
しかし、水中では同様の反応は起きませんので、オゾンを利用することになります。 　
O３＋・O２-→O3-＋O2（イオン化オゾンの生成）　　　　　　　　　　　（１） 　
O３-＋H２O→・OH＋O2＋OH-（イオン化オゾンからOHラジカルを生成）（２） 　
スーパーオキシドとオゾンがAOSⅡ内で混合反応すると、イオン化したオゾン「オゾニドイオン」が生成する。オゾニドイオンは水と接触すると瞬時にOHラジカルになります。


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Q&A集（一覧）

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・ 排水(廃水)処理とは？
・ 排水処理の方法はどのようなものがありますか？
・ 日本の排水規制
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　　＜産業廃棄物と汚泥処理＞ 　　 　　
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・ 汚泥(産業廃棄物)について教えて下さい。
・ 汚泥処理とは？
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　　＜活性酸素関係＞ 　　 　　
・ 活性酸素とは何ですか？
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・ 危険な活性酸素を利用するのは何故ですか？
(WEF技術開発が活性酸素にこだわる理由は何ですか？)
・ WEF技術開発の活性酸素利用はなぜ世界随一なのですか？
・ 活性酸素は簡単に発生させることが出来るのですか？
・ 活性酸素の利用方法を教えて下さい。
・ 「α-Gaia」（活性酸素処理装置）でどのようなものが処理できますか？
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・ オゾンと活性酸素の処理効果はどう違うのですか？
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